高真空磁控溅射镀膜技术【地震资讯】

来源:ob欧宝最新地址 作者:OB欧宝网页登录发布时间:2022-10-05 12:50:31

  技术作为一种产生特膜层的技术,在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式:即

  磁控溅射技术在市场中应用非常的广泛,各行各业物件膜层镀膜,大多数都是采用磁控溅射技术,磁控溅射技术在真空行业也是非常的受欢迎和追捧。高真空磁控溅射镀膜是属于物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料;适应用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜;且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

  磁控溅射技术目前得以广泛的应用 ,是由该技术有别于其它镀膜方法特点所决定的。其特点可归纳为:

  -靶材和靶面直接做到面接触是很难的,如果做不到面接触,接触电阻将增大,导致离化电场的幅值不够(接触电阻增大,接触面的电场分压增大),导致镀膜效果不好;电阻增大导致靶材发热升温,降低镀膜质量。

  占地面积小,尺寸约为:长1100mm×宽780mm(标准办公室门是800mm宽)(传统设备大约为2200mm×1000mm),相同面积的工作场地,可以放两台设备。

  采用铠装加热丝,由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内,所以高温加热过程中不释放杂质物质,保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里,保证温常的均匀,然后再对基片加热。

  真空室内外,全部电化学抛光,完全去除表面微观毛刺丛林(在显微镜下可见),没有微观藏污纳垢的地方,腔体内表面积减少一倍以上,镀膜更纯净,真空度更高,抽速更快。

  2、磁控溅射靶数量及类型:1 ~ 6 靶,圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置:由下向上、由上向下、斜向、侧向安装

  -基片加热器温度:根据用户供应要求配置,温度可用电脑编程控制,可控可调。

  -基片架公转速度 :2 ~100 转 / 分钟,可控可调;基片自转速度:2 ~20 转 / 分钟。

  -Φ2 ~Φ3 英寸平面圆形靶 2 ~ 3 支,配气动靶控板,靶可摆头调角度。